國儀中心憑藉深厚的真空科技研發實力，自行設計與組裝的二維材料真空沉積系統，進行先進半導體二維材料之製程檢測、設備研製技術與產業應用，成功建立符合產學研需求的前瞻性技術能量與材料驗證。該成果累積多項學術與技術發展，榮獲第 20 屆計量科技研發創意獎的肯定。

【研究團隊】

國儀中心：陳維鈞組長、陳宏彬副研究員、王尉霖副研究員、丘坤安副研究員、陳華琳副工程師、陳峰志資深研究員、林郁洧副主任

【作品簡介】

國儀中心團隊憑藉深厚的真空與製程技術基礎，自主設計並組裝前瞻性的二維材料沉積系統，研發關鍵設備與製程技術，成功取得多項發明專利，讓臺灣在國際先進製程領域中取得技術先機。團隊突破大面積高品質二維材料沉積的技術瓶頸，建置核心研究平台，已能於二至六吋晶圓上製備高均勻度的 WS₂ 薄膜。此外，整合臨場量測與線上檢測技術，建立一站式晶圓級製程檢測系統，提升製程良率並降低成本，展現臺灣在二維半導體材料與先進製程技術的創新實力。