2002 年 2 月出版
科儀新知 第 126 期
液晶顯示器專題
非晶矽薄膜電晶體液晶顯示器製造 [ 下載 PDF ]
薛英家
a-Si:H TFT LCD 已是 PC 產業的標準品,繼續朝向液晶電視邁進,成為 21 世紀顯示器主流。本文主要介紹 a-Si:H TFT LCD 的 array 陣列製造技術,由不同的 TFT 元件結構介紹說起,再深入製造技術-分清洗、沈積、黃光及蝕刻四大步驟,闡述各生產技術的重點。其中,詳述 BCE 與 CHP 的關鍵技術,最後以 4PEP BCE 作為 TFT 生產技術的挑戰。
薄膜電晶體液晶顯示器用彩色濾光片概述 [ 下載 PDF ]
李孟錴, 黃導陽
彩色濾光片為液晶顯示器中彩色化的一項重要且關鍵的零組件。雖然目前彩色液晶顯示器有 STN 與 TFT 之分,但就彩色濾光片而言,TFT LCD 用的彩色濾光片較具潛力及發展性。因此本文將著重於 TFT LCD 用彩色濾光片的製程以及各種不同構造的介紹。另外為因應目前 TFT LCD 低價化的趨勢,除了在製程上設法降低生產成本外,還可藉由新製程技術的開發,如 IPS、MVA、反射式 TFT LCD 等所用的彩色濾光片,提高產品的附加價值。
LTPS 現況及未來展望 [ 下載 PDF ]
范原銘
低溫多晶矽 (low temperature poly-silicon, LTPS),號稱為次世代的 TFT LCD 技術,受到全球各界的注目。低溫多晶矽的優點在於其輕薄的特性、反應速度快、可靠度高、低耗電及高畫質等等,對於現今行動資訊、通訊社會的廣大需求來說,低溫多晶矽的優質表現正好符合一切的需求。根據調查,全球目前有生產或計劃生產低溫多晶矽 TFT LCD 的廠商超過 10 家以上。在 Semiconductor & FPD World 的統計中,2000 年全球 LTPS TFT LCD 面板市場規模為 970 億日圓,2001 年約 1,600 億日圓,在整體 TFT LCD 市場衰退的情況下仍然有此高成長,更證實了 LTPS 的優越性。
STN 液晶顯示器之顯示原理與生產製程 [ 下載 PDF ]
林文彬, 念家富, 辛哲宏, 卓景生, 麥彥全
今日大行其道之手機與 PDA 的顯示模組,主要是來自 STN 顯示器。未來十年國內的 STNLCD 產業在國家的高科技發展將扮演極為重要之角色。值此國內產業轉型升級之際,本文將進一步探討 STN LCD 相關之顯示技術與生產技術。文中將概要性地介紹 STN LCD 之結構、顯示原理與光電特性。同時亦概略敘述 LCD 之生產流程以及 STN LCD 之檢測。
表面振動光譜技術:紅外光吸收、拉曼散射與和頻 [ 下載 PDF ]
王俊凱
本文介紹三種光學性的表面振動光譜技術 (紅外光吸收光譜技術、拉曼散射光譜技術及和頻光譜技術) 的基本原理及實際應用的例子,特別著重它們的特性與相異之處。
使用同步輻射光源的傅立葉變換紅外光譜顯微鏡技術及應用 [ 下載 PDF ]
羅一中, 陳慶曰, 張劍虹
台灣同步輻射研究中心 (Synchrotron Radiation Research Center, SRRC,以下簡稱本中心) 利用同步輻射加速器產生之紅外光源所建立之紅外顯微光束線 (IR microscopy beamline) 實驗站可提供需要高亮度及超高空間解析率的傅立葉變換紅外顯微光譜之材料分析與鑑定。本文將介紹本中心最近所完成建造的 FTIR 顯微光譜光束線及實驗站等儀器之光學設計、製造及安裝使用情形。利用同步輻射紅外光源的傅立葉變換紅外光譜顯微鏡實驗技術可達到 10 µm 以下之空間解析度 (實際解析度受限於波長之繞射極限,即 wavelength diffraction limited),特別對微小樣品微區材料分析與鑑定提供極佳之研究工具,此技術適合應用於需 FTIR 微小區域測量分析之材料,包含了高分子有機物、生物細胞、半導體污染物等多種材料。
溶離試驗儀的回顧與未來展望 [ 下載 PDF ]
周泳杉, 李德仁
溶離試驗儀是製藥工業用以模擬人體消化系統環境、進而測試藥物溶離度的儀器,多數體外溶離試驗被用來確保生產品質均一性,或比較不同批次產品的體外表現。近年來台灣藥廠全面實施 cGMP 認證,為提昇製藥工業的技術、品質以達國際水準,溶離試驗的重要性有逐年增高的跡象。本文將從溶離試驗儀的發展過程,深入探討藥典規範與儀器設計間的關連,並剖析當前與未來溶離試驗儀的發展趨勢,提供國內製藥與生物科技產業參考。
奈米科技與工業革命 [ 下載 PDF ]
馬遠榮
自 18 世紀 60 年代起,英國棉紡織業使用瓦特製成的改良蒸汽機,大幅度增加了棉紗產量,並在極短時間內改良蒸汽機,應用到採煤、冶金及交通運輸等各行各業,這就是俗稱的工業革命。此後二百多年之中,人類除了經歷蒸汽機時代的第一次工業革命,實現產業機械化以節省人力,更經歷電機時代、原子時代、太空時代的第二次工業革命,及在二十世紀中末期,電子計算機與電腦資訊網路時代帶領我們進入第三次工業革命。而在我們繼續邁開腳步進入二十一世紀的同時,第四次工業革命-奈米科技將伴隨而來。展望未來,人類將會再一次傾倒於自己親手發起的革命,再一次沉醉於自己親手創造的文明。
微射出成型技術簡介 [ 下載 PDF ]
周榮源
微射出成型技術是微元件大量生產的方式之一,在微成型技術中佔有重要的地位。微射出成型技術與傳統射出成型技術有顯著的差異性,包括射出壓力、射出速度、機構控制系統等,需要有一全新設計才能達到微射出製造之需求。本文主要目的在簡介此一新興技術之概況與應用,並以國外發展模式為例,提出國內在建立此一技術之問題與建議。此項技術為一高科技整合技術,包括電子、電機、機械與控制等,實有賴各領域專家共同投入方能有成。