2003 年 10 月出版

科儀新知 第 136 期

平面顯示器專題

低溫複晶矽薄膜電晶體技術及其在平面顯示器上之應用 [ 下載 PDF ]

鄭晃忠, 常鼎國, 蔡春乾, 陳柏廷, 呂健豪

低溫複晶矽薄膜電晶體兼具了電特性佳、體積小、CMOS 製程相容,以及低溫製程、可大面積化的優點,因此未來將取代傳統的非晶矽薄膜電晶體作為開關元件,再者,甚至於周邊驅動電路、邏輯控制電路、記憶體、中央控制單元 (CPU) 等也可以同時製作於同一基板上,達到「系統在面板上 (system on panel)」的目標。然而,目前低溫複晶矽薄膜電晶體在製作上仍有許多問題尚待解決,如複晶矽薄膜的結晶性與均勻性、高品質低溫閘極氧化層的製備等,若無法解決上述的問題,則高效能的低溫複晶矽薄膜電晶體便無法製作出來。本文將針對低溫複晶矽薄膜電晶體之現有技術做一探討,同時對其應用在平面顯示器上做一介紹。


高品質複晶矽薄膜電晶體-鎳金屬誘發複晶矽側向成長的機制探討 [ 下載 PDF ]

侯綉芳, 盧棨彬, 王澤豪, 周立人

薄膜電晶體液晶顯示器在各種平面顯示器中,逐漸佔有主導的地位,如何提高畫質、降低耗電則是當今熱門的研究主題。本文主要介紹鎳金屬矽化物催化固相低溫側向結晶之機制,討論鎳金屬層的形狀效應及非晶矽薄膜的厚度對結晶品質的影響,並利用高分辨電子顯微鏡對結晶薄膜作微結構分析,以期對結晶機制有更多的了解,作為製作高性能低溫複晶矽薄膜電晶體的基礎。


缺陷檢測技術在液晶顯示器製造之應用 [ 下載 PDF ]

張鈞傑, 黃俊堯, 鄭晃忠

薄膜電晶體是主動式矩陣平面顯示器的重要元件,隨著面板與玻璃基板的尺寸越來越大,製程的穩定性與可靠度是邁入量產技術必須考量的重要因素,本文將以提高薄膜電晶體製程製造良率的觀點,闡述自動化缺陷檢測技術的重要性。在介紹缺陷檢測技術之硬體需求與軟體系統之後,將針對常見的製程缺陷作一個簡單的分類與分析。


液晶顯示器廣視角技術之發展 [ 下載 PDF ]

莊敏宏

相較於傳統液晶顯示器,雖然使用多區塊垂直對齊模式與平面式切換模式技術需要不同的設計規則與結構,然而對於大尺寸的顯示器產品,諸如在電視 (LCD-TV) 方面之應用,當考慮 TFT-LCD 產品之效能時,MVA 與 IPS 技術在市場上之佔有率更形重要。就 MVA 技術而言,在目前大尺寸 TFT-LCD 產品市場中,因其具有廣視角、高對比、高亮度、及短切換時間等特性,且成本低,故已成為市場中的主要 TFT-LCD 技術之一;而在不斷開發新技術下,動畫影像品質、亮度、及視角特性均獲大幅改善,而能運用於大尺寸 TV 市場。另一方面,IPS-LCD 模式也是目前製造大尺寸 TFT-LCD 的主流技術之一,新的製造技術也被研發,來改善其反應速度及其他特性。本文係就LCD 廣視角技術之發展作一分析說明。


材料分析技術在顯示器產業上的應用 [ 下載 PDF ]

謝詠芬, 羅鏡混

在顯示器行業中,相對於 IC 元件的結構尺度大多在 5 µm 以上,對於挑戰分析能力的極限部分實際上並不多,但是由於顯示器模組的製造與組裝涵蓋的零件項目往往多達 100 種以上,因此材料分析技術可以應用的範疇相對擴大許多。本文將作者過去在顯示器作業中既有的經驗提供讀者參考,相信在台灣已快速成長的薄膜電晶體液晶顯示器、極具潛力的低溫多晶矽的技術、有機發光顯示器和現今積極研發中的投射式液晶的顯示器,在今日和未來亦會依賴相當多的材料分析技術,而這是將台灣的研發能力和產品品質確實提升的唯一途徑。



氧化鎳奈米結構製作及其應用於奈米碳管選區成長 [ 下載 PDF ]

賴信文, 許如宏, 林鶴南, 莊佳智, 黃金花

原子力顯微術奈米氧化,具有奈米級解析度、適用樣品廣泛、可於大氣環境下操作等優點,近年來發展迅速,備受矚目。本文介紹於鎳薄膜表面進行奈米氧化,製作氧化鎳奈米結構,再以化學蝕刻去除鎳,然後利用氧化鎳作為觸媒模板,達成選區成長奈米碳管。



低光擾掃描電容顯微鏡分析技術及其在載子分布分析之應用 [ 下載 PDF ]

張茂男, 陳志遠, 萬文武, 梁正宏, 潘扶民

掃描電容顯微鏡能分析二維載子濃度的分布,並經由接觸模式的原子力顯微鏡提供對應的表面形貌影像,由於原子力顯微鏡雷射光束的雜散光引起光擾效應,導致微分電容-位置曲線扭曲,進而干擾微分電容影像對比。我們利用氟化硼離子佈植的橫截面試片驗證光擾效應的存在,並深入分析光擾效應對微分電容訊號的影響。此外,在本文中,也將介紹低光擾掃描電容顯微鏡技術,及其在分析熱處理程序引致載子濃度分布變化的應用。



分子束磊晶技術與原子力顯微術在二六族化合物半導體奈米結構之應用 [ 下載 PDF ]

周武清, 楊祝壽, 郭明錦, 賴怡仁

本文主要簡介分子束磊晶系統與原子力顯微鏡,並且介紹以分子束磊晶技術成長二六族化合物半導體奈米結構、以原子力顯微術與光激螢光譜觀察其表面特性與光學特性。最後對奈米發光二極體的製作過程作詳細討論。



微波萃取技術之應用 [ 下載 PDF ]

陳崇宇, 李茂榮

樣品前處理是儀器分析上相當重要的步驟,而樣品處理方式則建立在樣品介質、分析物性質和儀器分析方法上。微波萃取技術於複雜基質中微量分析佔有重要角色。微波萃取最大的優點即在容器內產生高溫和高壓,致其快速反應而縮短其萃取時間。本文簡單地介紹微波萃取技術的原理、影響微波萃取之因素及實際應用等,以作為樣品分析前處理之參考。



微型化螢光檢測系統 [ 下載 PDF ]

謝哲偉, 翁俊仁, 林明瑜

欲達成居家使用之目標、擴充生醫晶片的普適性,將檢測系統微型化是一值得研究之方向,然文獻所提方法包羅甚廣,面臨的問題亦各異。本文據此針對檢測系統之微型化設計作一介紹,文中將以生醫螢光檢測為主題,由免疫螢光檢測法之介紹開始,引入螢光檢測系統之模組設計與選用,並於文末將文獻中之系統整合方法作一分類整理,期使讀者了解微型化螢光檢測系統之架構與設計考量。



整合式表面分析系統簡介 [ 下載 PDF ]

林景崎, 鄭文達

本文介紹最新發展之整合式 AES/ESCA/UPS 表面分析系統,文中除個別針對三種表面分析系統之原理、特性、適用領域及使用限制等進行比較與說明,並以實例闡述此三種表面分析系統整合後應用之優勢所在。